3月22日、中国専利保護協会（PACC）と日本知的財産権協会（JIPA）が主催し、舟山市科技局が共催する第十一回日中企業協力知的財産権交流活動が舟山市で開催された。中国企業からのの140余名の企業代表及び日本企業からの30名ほどの代表が会議に参加した。

当所は今回のフォーラムに参加し、参加者たちに当所の特許、商標、著作権、法律及びコンサルティング等の業務を紹介した。

今回のフォーラムは、日中両国の知的財産権分野における協力を促進し、企業知的財産権管理、運用及び保護に関する経験を共有し、日中企業知的財産権協力のプラットフォームを建築することを目的とする。日本企業のソニー、富士通、古野電気、キャノン、三菱電子、村田製作所、東レ、ダイセルなどの知名企業の代表及び中国企業のHaier、BYD、SUPOR、海正薬業、Luye Pharma Group、横店東磁の代表が企業知的財産権体制の建築、健全及び効率的な運営などのテーマを巡り、検討及び交流をした。